台积电公司订购ASML公司极紫外光刻系统Twinscan NXE3100

光刻设备厂商ASML公司近日宣布，台积电公司最近订购了该公司一台Twinscan NXE3100 极紫外（EUV）光刻系统，目前为止，已经有六家公司订购了ASML公司的这套光刻系统，其中台积电是唯一一家专门面向代工业务的厂商，据称台积电公司将 在其Fab12 GigaFab厂房中安装这套设备，其用途主要是用于新制程技术的研发。

极紫外光刻技术的光波波长比现有的193nm波长沉浸式光刻技术所使用的光波波长要短许多，光波波长仅13.5nm，因此可用于制造关键尺寸更小的芯片，而现有193nm沉浸式光刻技术要想用于制造关键尺寸较小的芯片则需要配合成本较为昂贵的其它辅助技术。台积电公司目前正在评估包括EUV在内的多种光刻技术方案，以便从中选出最适用的方案应用到未来的制程技术中。